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2018年9月25日下午，中科院微电子研究所陈宝钦研究员应邀来物电学院进行学术交流，作了题为“微光刻与电子束光刻技术的发展”的学术报告。报告会由物电学院科研副院长宁利新教授主持，学院相关专业教师、研究生和部分本科生参加了报告会。

报告中，陈宝钦研究员首先分享了他个人的成长历程，从大学毕业到中国微光刻技术行业的开拓者，陈老一直兢兢业业，艰苦奋斗，默默无闻地为中国微光刻技术行业发展作出了巨大的贡献。随后，陈宝钦研究员首先就半导体制造工艺的所需要的基本要求做了简单介绍：最完美的晶体、最精密的设备、最精确的工艺、最干净的材料、最洁净的环境、最敬业的人员。半导体制造工艺靠千百万材料工艺设备人员共同组成，任何一块短板决定整个国家的技术水平。其次，就微光刻技术的发展历程，光学光刻技术，光学光刻如何一次又一次突破光刻分辨率极限，电子束光刻工艺技术，电子抗蚀剂工艺技术，微纳加工数据处理技术，中国集成电路制造业的发展，微纳米加工技术逼近工艺极限，微电子器件结构逼进物理极限及摩尔定律面临失效后，微电子技术去向何方等各个方面做了系统的介绍分析。最后，陈宝钦研究员将魔方的奇妙变换与科学研究结合起来，阐述了做人做事做学问的基本道理。讲座结束后，与会的各位老师和同学们就自己关心的问题与陈宝钦研究员展开了深入的交流和讨论。 

陈宝钦研究员，1966年9月毕业于北京大学物理系半导体专业，中国科学院微电子研究所工作，兼职中国科学院研究生院教授，中国电子学会高级会员，北京半导体专业委员会委员、制版分会主任，全国半导体设备与材料标准化技术委员会副主任委员、微光刻分委会主任委员，全国纳米技术标准化技术委员会微纳加工技术工作组副秘书长，光学微细加工国家重点实验室学术委员会副主任委员。